鼎龙股份，ArF/KrF晶圆光刻胶突破，签单两大厂！

12月9日，鼎龙股份公告，公司控股子公司鼎龙（潜江）新材料有限公司生产的某款浸没式 ArF 晶圆光刻胶及某款 KrF 晶圆光刻胶产品前后顺利通过客户验证，并于近期分别收到共两家国内主流晶圆厂客户的订单，合计采购金额超百万元人民币。

据悉，公司已布局 20 余款高端晶圆光刻胶，多款在国内还未突破。除上述2款实现突破外，另外8款产品处于客户测试阶段，剩余款均处于研发及内部测试中。目前，公司已具备年产30 吨 KrF/ArF 高端晶圆光刻胶产线具备批量化生产及供货能力，二期年产300 吨产线尚在建设中。

这也是公司正在募投的，计划总投资80,395.30万元项目，产品属于正性光刻胶中的化学放大型光刻胶，其对深紫外光源具有良好的光学敏感性，同时具有高对比度、高分辨率等优点，主要面向基于先进工艺的12英寸晶圆制造，用于处理器、存储器等。

项目配套的关键原材料包括，年产1,500吨聚氨酯预聚体、年产50 吨微球、年产 100吨二胺、 年产200吨聚酰亚胺树脂、年产13 吨丙烯酸系衍生物和年产 600 吨酚醛树脂。

除鼎龙之外，国内还有多家企业在这两种产品方面有进展。

晶瑞电材，近日在互动平台表示，公司子公司瑞红苏州拥有紫外宽谱系列光刻胶、g线系列光刻胶、i线系列光刻胶等近百种型号半导体光刻胶量产供应市场，在高端光刻胶方面，已有多款KrF光刻胶量产，ArF光刻胶多款产品已向客户送样。

华中科技大学武汉光电国家研究中心团队（武汉太紫微光电科技有限公司），在今年10月宣布，攻克合成晶圆光刻胶所需的原料和配方，T150A光刻胶系列产品通过半导体工艺量产验证。

相较于国外UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，经过刻蚀下层介质的侧壁垂直度表现优异。

上海新阳，在互动平台表示，公司 ArF在客户端验证中。I线，krF已有销售，销量逐步增加，合肥工厂目前在试生产阶段。

南大光电，则表示其三款ArF光刻胶产品已经通过验证。

此外，华懋科技的子公司徐州博康已成功开发ArF/KrF单体及光刻胶等。彤程新材收购的国内半导体光刻胶龙头科华微电子，是国内唯一能为本土8寸及12寸晶圆厂批量供应KrF光刻胶的企业，比较高端的ArF和EUV正在试量产中。

从上面可以看出，国内主要厂家还处于商业化初期。全球用于先进工艺的 KrF、ArF、 EUV 光刻胶基本的市场份额仍然还是由日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、信越化学、住友化学、富士电子、美国杜邦、韩国东进等全球巨头主导。

其中，KrF、ArF光刻胶覆盖了从0.25µm 到 7nm的主要半导体先进制造工艺，在大尺寸和先进制程的趋势下，是最主流的材料，也是现阶段迫切需要突破的半导体关键材料，涉及配方设计、成膜树脂和光敏剂设计与合成、原材料纯化、规模化生产以及批次稳定性等多个难点。EUV光刻胶量产则更难上加难。

当然，最最难的点还是缺光刻机，产业脱节，材料产业化任重道远。

来源：DT新材料